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本发明涉及成膜装置。提供一种能够将在旋转台的上方侧形成的第一处理区域的气氛与第二处理区域的气氛有效地分离的成膜装置。成膜处理装置设置在真空容器内，对旋转的旋转台上载置的基板供给处理气体来进行成膜处理。在旋转台的上方设置有被分离区域相互分离的...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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