下载考虑局部布局效应的制造集成电路的方法和系统的技术资料

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一种制造包括标准单元的实例的集成电路(IC)的方法包括布置第一实例并布置与第一实例相邻的第二实例。所述第二实例具有与所述第一实例的场景组相对应的前端层图案。所述场景组包括与实例的前端层图案有关的信息,所述前端层图案在所述第一实例上引起相同的...
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