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本发明提供一种扩散炉管设备及处理废气方法。该扩散炉管设备包括扩散炉管反应室、预处理系统以及真空泵，扩散炉管反应室用于半导体器件制造；预处理系统与扩散炉管反应室的废气口连接，预处理系统包括等离子体室，在等离子体室中扩散炉管反应室排出的废气与氧...
该专利属于睿力集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过睿力集成电路有限公司授权不得商用。

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