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用于半导体掩模检验的基于多边形的几何分类制造技术
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文档序号:18580058
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本发明揭示用于提供特征分类以用于光刻掩模的检验的方法及设备。用于制作掩模的设计数据库包含各自由一组顶点定义的多边形。将彼此邻接的所述多边形中的任一者分组在一起。将任何经分组多边形合拢以便消除每一组经分组多边形的内部边缘以获得与此组经分组多边...
该专利属于科磊股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过科磊股份有限公司授权不得商用。
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