下载磁性靶材组件及其制备方法、溅射腔室的技术资料

文档序号:18364480

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本发明公开了一种磁性靶材组件及其制备方法、溅射腔室。本发明公开的磁性靶材组件包括:背板,背板的厚度均匀;磁性靶材,磁性靶材固定于背板,且在磁性靶材的溅射面上设置有凸起的溅射损耗部,用于防止磁性靶材被溅射穿透,从而提高磁性靶材的利用率。本发明...
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