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一种研磨垫，包含第一区域，第一区域具有第一几何性质及第一材料性质。研磨垫还包含第二区域，第二区域具有第二几何性质及第二材料性质，其中第二区域比第一区域更靠近研磨垫的边缘。第一几何性质不同于第二几何性质、或第一材料性质不同于第二材料性质。...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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