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半导体器件制造技术
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文档序号:18085803
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本公开提供了半导体器件。一种半导体器件包括:在基板上的第一有源图案和第二有源图案;第一栅电极和第二栅电极,分别跨过第一有源图案和第二有源图案;第一绝缘图案,在第一栅电极和第二栅电极之间并使第一栅电极和第二栅电极分隔开;栅间隔物,在第一栅电极...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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