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物理气相沉积领域中的黄铜件真空离子镀替代电镀方法，包括黄铜件、抛光、清洗、烘烤、炉体真空室、脉冲负偏压、靶材，特征：在黄铜件［３］与真空室［９］之间，加有脉冲负偏压，其占空比为１０－３０％，电压为１００－２０００Ｖ，频率为４０ＫＨｚ；替代电...
该专利属于大连理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过大连理工大学授权不得商用。

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