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本发明涉及磁控溅射装置技术领域，具体地说是一种防污染超高真空磁控溅射镀膜装置，包括外部驱动系统、微机控制系统、磁控溅射室、上盖板、转动轴、样品位、样品台、靶位、驱动电机、靶位档板、靶位档板驱动电机，溅射室内上盖板上垂直安装一个定位销（７），...
该专利属于上海工程技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海工程技术大学授权不得商用。

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