【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及磁控溅射
，具体地说是一种防污染超高真空磁控溅射镀膜装置。溅射是通过荷能粒子轰击靶材，通过传递使得靶材原子获得足够的能量从原来的状态逸出，或者释放出其它高能粒子，溅射出来的原子或其他高能粒子，可以被设置在特定位置的装置收集，从而形成膜层或特定信号，收集装置得到的特定信号可以用来表征靶材的性质，改变收集装置的表面状态，甚至形成纳米级的薄膜或涂层等，依据洛伦兹力的原理，在存在正交的电磁场中，带电粒子的运动轨迹将会沿电场方向加速的同时，沿着磁力线方向螺旋前进。因此在磁控溅射时，正交的电磁场可以提高电子的效率，降低对介质气氛如氩气压的要求，提高溅射的效率、沉积的速率，降低沉积原子的能量，故在溅射镀膜技术中，磁控溅射因具有沉积速度高，工作气体压力低，对样品的加热升温作用小的独特优点，得到了大量的研究开发和应用。但是，在磁控溅射过程中，荷能粒子对靶材的轰击，除了一部分溅射原子在样品表面沉积成膜外，从靶材中激发出来的其他形态的高能粒子，以及冗余的溅射原子，会以漫散射的状态弥散在磁控溅射室中，其中的一部分将会沉积或注入到磁控溅射室的内表面，如果在磁控溅射室中一...
【技术保护点】
一种防污染超高真空磁控溅射镀膜装置，包括外部驱动系统、微机控制系统、磁控溅射室（１）、上盖板（９）、转动轴（８）、样品位（５）、样品台（６）、靶位（２）、驱动电机（１３）、靶位档板（１６）、靶位档板驱动电机（２０），其特征在于：溅射室（１）内上盖板（９）上垂直安装一个定位销（７），样品台（６）上层开设与定位销（７）配套的定位槽，样品台（６）下层垂直安装定位销（１４），上档板（４）上开设与定位销（１４）相对应的定位槽（１８），上档板（４）用螺钉（３）连接转动轴（８）底部，上档板（４）上开设一个溅射孔（１７），手动操作杆（１５）的齿轮一端贯穿溅射室与上档板（４）边缘的齿轮（１９...
【技术特征摘要】
1.一种防污染超高真空磁控溅射镀膜装置，包括外部驱动系统、微机控制系统、磁控溅射室(1)、上盖板(9)、转动轴(8)、样品位(5)、样品台(6)、靶位(2)、驱动电机(13)、靶位档板(16)、靶位档板驱动电机(20)，其特征在于溅射室(1)内上盖板(9)上垂直安装一个定位销(7)，样品台(6)上层开设与定位销(7)配套的定位槽，样品台(6)下层垂直安装定位销(14)，上档板(4)上开设与定位销(14)相对应的定位槽(18)，上档板(4)用螺钉(3)连接转动轴(8)底部，上档板(4)上开设一个溅射孔(17)，手动操作杆(15)的齿轮一端贯穿溅射室与上档板(4)边缘的齿轮(19)相啮合，每个靶位(2)上方均安装一个由支撑杆固定的靶位档板(16)，靶位档板(16)连接靶位档板驱动电机(20)。2.如权利要求1所述的一种防污染超高真空磁控溅射镀膜装置，其特征在于所述的外部驱动系统由驱动电机(13)连接驱动轴(12)的一端，驱动轴(1...
【专利技术属性】
技术研发人员：周细应，刘延辉，李培耀，钱士强，
申请(专利权)人：上海工程技术大学，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。