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本发明提供一种监控化学气相沉积反应腔室洁净度与洗净工艺时间的方法，其利用一种会因为反应腔室杂质污染物存在，而造成材料折射率产生改变的监控层，来对反应腔室洁净度进行监控，以达到避免因反应腔室洗净时间不足，所造成的后续沉积层成品率不佳的缺点，并...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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