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准分子激光光刻照明系统相干因子的校准方法技术方案
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文档序号:17969509
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本发明是光刻系统基于CCD成像相干因子测量系统装置,通过针孔、旋转平台、手动X‑Y位移平台实现CCD感光面和透镜焦平面一致的校准。在CCD上建立合适的坐标系,然后在针孔上取一点,通过透镜成像在CCD上,求出此点的质心,得到第一个坐标点A`。...
该专利属于四川大学所有,仅供学习研究参考,未经过四川大学授权不得商用。
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