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本文中的技术提供了用于鳍片和纳米线的精确切割，而不需要伪栅极对来补偿上覆未对准。本文的技术包括使用蚀刻掩模来去除栅极结构的指定部分以限定具有鳍片结构、纳米线等的沟槽或敞开空间。未被覆盖的鳍片结构被蚀刻掉或以其他方式从沟槽区段去除。限定沟槽的...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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