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通过硅来分配功率的两侧上的金属制造技术
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下载通过硅来分配功率的两侧上的金属的技术资料
文档序号:17961360
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一种设备,包括电路结构,其包括装置层;以及接触部,其耦合到供应线并布线通过所述装置层,并且在第一侧上耦合到至少一个装置。一种方法,包括:将供应从封装衬底提供到电路结构的装置层中的至少一个晶体管;以及使用装置层的下侧上的供应线将供应分配到所述...
该专利属于英特尔公司所有,仅供学习研究参考,未经过英特尔公司授权不得商用。
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