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半导体堆叠体制造技术
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文档序号:17961147
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一种半导体堆叠体包括:衬底,其由碳化硅制成;以及外延层,其设置在所述衬底上并且由碳化硅制成。所述外延层的外延主表面是相对于c面具有4°或更小的偏离角的碳表面,所述外延主表面是与所述衬底相反的主表面。在所述外延主表面中形成有多个第一凹部,从平...
该专利属于住友电气工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过住友电气工业株式会社授权不得商用。
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