下载托盘、反应腔室、半导体加工设备的技术资料

文档序号:17903132

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本发明提供一种托盘、反应腔室、半导体加工设备,属于半导体加工技术领域,其可解决现有技术中基片容易出现位置偏差的问题。本发明的托盘,包括托盘本体,所述托盘本体上设置有凹部;预设所述托盘本体的上表面的围绕所述凹部的区域为第一承载位;所述第一承载...
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