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本发明提供了一种自对准四重图形技术(Self‑Aligned Quadruple Pattern，简称SAQP)，本发明中的自对准四重图形技术(SAQP)，通过二次沉积侧墙材料工艺，在不改变目前光刻技术的前提下(即光刻窗口大小不变)，可以获...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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