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本发明提供了一种传输腔室及半导体加工设备，传输腔室包括腔体，在腔体内设置有用于承载基片的承载装置，还包括加热装置、进气装置和排气装置；加热装置用于加热基片，以使基片上的残余气体挥发；进气装置用于向腔体内输送气体；排气装置用于将腔体内的气体排...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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