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本发明的基板处理方法包括：包括：基板保持工序，将基板保持为水平；液膜形成工序，向所述基板的上表面供给处理液，来形成用于覆盖该基板的上表面的处理液的液膜；蒸气环境气体充满工序，使所述处理液的液膜的周围被蒸气环境气体充满，所述蒸气环境气体包含具...
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