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OPC建模中次分辨率辅助图形确定的方法技术
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文档序号:17653713
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本发明公开一种OPC建模中次分辨率辅助图形确定的方法,包括:步骤S1:在已有SRAF数据库中选择可曝在晶圆上的第一SRAF类型;步骤S2:选择具有第一SRAF类型的结构图形,并在结构图形中选取图形周期恰可加入1根和2根第一SRAF类型的结构...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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