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集成电路器件制造技术
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文档序号:17616843
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本公开涉及集成电路器件。一种集成电路器件包括:衬底,其包括器件有源区;鳍型有源区,其在器件有源区上从衬底突出;栅线,其交叉鳍型有源区并重叠鳍型有源区的表面和彼此相反的侧壁;绝缘间隔物,其设置在栅线的侧壁上;源极区和漏极区,其在栅线的彼此相反...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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