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本发明提供一种对具有细孔的多孔质膜进行改性的处理方法，其包括蚀刻工序和灰化工序，所述蚀刻工序包括重复实施包括如下工序的动作顺序的步骤：向收纳有具有所述多孔质膜的被处理物的等离子体处理装置的处理容器内供给包含处理气体的第一气体的工序，向所述处...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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