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一种薄膜晶体管及其制备方法和应用技术
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文档序号:17470490
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本发明属于半导体材料领域,公开了一种薄膜晶体管及其制备方法和应用。所述薄膜晶体管由衬底、衬底上设置的栅极、栅极表面包覆的绝缘层、绝缘层上表面的有源层、有源层两侧的源漏电极和最外层的钝化层构成;所述源漏电极与有源层和绝缘层两侧及衬底上表面接触...
该专利属于华南理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过华南理工大学授权不得商用。
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