温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种制造集成电路的布局设计的形成方法。该方法包括基于设计标准生成集成电路的第一布局，生成集成电路的标准单元布局，基于第一布局和标准单元布局生成集成电路的通孔颜色布局，并基于设计规则对通孔颜色布局实施颜色检查。第一布局具有布置为多...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。