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本实用新型涉及基板处理装置，特别涉及涂布膜的基板处理装置。能够有效提高涂布膜的膜厚的均匀性。涂布和显影装置具备：喷嘴，其向晶圆喷出处理液；压送部，其向喷嘴侧加压输送处理液；送液管路，其具有从压送部侧向喷嘴侧排列的阀(53、54)，用于从压送...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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