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本发明涉及一种大面积玻璃衬底上倒梯形截面光刻胶掩膜的制备方法，涉及半导体光电子器件技术领域。解决现有图像反转工艺无法应用于大面积玻璃衬底制备倒梯形截面光刻胶掩膜的技术问题。本发明提供的一种大面积玻璃衬底上倒梯形截面光刻胶掩膜的制备方法，在普...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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