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本实用新型涉及一种应用阵列式接触孔的瞬态电压抑制器件，包括硅基衬底，处于硅基衬底上表面的外延层，以及处于外延层上方的金属层，在外延层上表面与金属层下表面之间形成层间介质层，层间介质层上阵列有两个或两个以上贯穿层间介质层上下表面的接触孔，金属...
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