温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了衬底的背面摩擦减小。处理室系统包括被配置成将衬底固定在第一处理室内的衬底安装模块。该系统还包括被配置成向衬底的正面表面施加光敏膜的第一沉积模块以及被配置成向衬底的背面表面施加膜层的第二沉积模块。衬底的正面表面与背面表面相反。衬底...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。