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本实用新型提供了一种化学槽上的盖合装置以及清洗机台，应用于清洗晶圆的清洗机台上，包括化学槽，化学槽设置于清洗机台内，其特征在于，还包括：与化学槽适配的盖板，盖板水平的盖合于化学槽的顶部；伸缩结构，设置于清洗机台的内部并与盖板连接，用以控制盖...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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