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基板处理装置具备：基板旋转机构，旋转基板；喷嘴部，向所述基板的主面喷出处理液的液滴；以及喷嘴移动机构，使所述喷嘴部在沿所述主面的方向上移动。喷嘴部具备两个引导面(511)、两个气体喷出口(512)和两个处理液供给口(513)。气体喷出口沿引...
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