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三维非易失性存储器及其制造方法技术
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文档序号:17102068
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本发明公开了一种三维非易失性存储器,包括基底、堆叠结构与沟道层。堆叠结构设置于基底上,且包括多个第一介电层、多个栅极与多个电荷存储结构。第一介电层与栅极交替地堆叠。电荷存储结构设置于栅极的一侧。相邻两个电荷存储结构借助位于其间的第一介电层进...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。
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