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本公开提供了一种用于微光刻的投射曝光设备(10)以及用于操作这种投射曝光设备的方法。该投射曝光设备(10)包括：投射镜(22)，具有多个光学元件(E1‑E4)，用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基底(24)上；至少一个操纵器(M1‑M4)，...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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本公开提供了一种用于微光刻的投射曝光设备(10)以及用于操作这种投射曝光设备的方法。该投射曝光设备(10)包括：投射镜(22)，具有多个光学元件(E1‑E4)，用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基底(24)上；至少一个操纵器(M1‑M4)，...