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电容器结构及其制造方法技术
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文档序号:17035520
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本发明公开一种电容器结构及其制造方法,该制造方法包括以下步骤。在第一导体层上形成堆叠结构,其中堆叠结构从第一导体层起依序包括第一介电层、蚀刻终止层与第二介电层。在堆叠结构中形成介层窗,其中介层窗包括阻障层与导电插塞,且介层窗与第一导体层电连...
该专利属于力晶科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过力晶科技股份有限公司授权不得商用。
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