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提供一种用于在基板上沉积材料的沉积设备(300)。沉积设备(300)包括：两个或更多的处理腔室，包括第一处理腔室(310)及第二处理腔室(320)；基板支撑件(330)，至少延伸通过第一处理腔室(310)及第二处理腔室(320)；及两个或更...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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