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本发明关于反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜。根据本发明的反射镜具有反射镜基板(101)，将入射至光学有效表面(100a)上的电磁辐射反射的反射层系统(102)，以及覆盖层(104)，该覆盖层布置在反射层系统(102)面向光学有效表面...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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本发明关于反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜。根据本发明的反射镜具有反射镜基板(101)，将入射至光学有效表面(100a)上的电磁辐射反射的反射层系统(102)，以及覆盖层(104)，该覆盖层布置在反射层系统(102)面向光学有效表面...