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本发明公开了在单个真空腔体上实现多个超高真空工位结构及测试方法，利用传统的结构进行产品测试的抽真空过程中，很难使副舱达到超高真空本底状态，即使达到，也需要数小时，真空度较差，容易对产品造成损伤。利用本发明结构，能够在1小时以内快速使副舱达到...
该专利属于北京控制工程研究所所有，仅供学习研究参考，未经过北京控制工程研究所授权不得商用。

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