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一种光刻设备，包括：定位平台(WT)；隔离框架(300)；投影系统(PS)，包括第一框架(210)；第二框架(220)；支撑框架(10)，用于支撑定位平台；第一振动隔离系统(250)和第二振动隔离系统(270)，其中支撑框架和第一框架经由第...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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