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提供用于制造改进的氧化铈研磨剂的方法，该氧化铈研磨剂适合于形成用于ＣＭＰ工艺的浆料组合物。在更大的次级研磨颗粒中引入的主要氧化铈颗粒的条件下，通过铈前体化合物和杂质金属化合物的混合物的热处理制造氧化铈研磨剂。杂质金属和／或次级研磨颗粒内不完...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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