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本发明公开了一种用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液的成分和体积％比组成如下：硅溶胶３０～９０；有机胺碱１～１０；活性剂０．５～５；ＫＯＨ溶液０．５～５；去离子水为余量。在ＣＭＰ条件，将微晶玻璃的主体二氧化硅（酸性氧化物）在高ｐＨ值下快速转化为可溶...
该专利属于河北工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过河北工业大学授权不得商用。

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