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本发明公开了一种半导体锑化铟化学机械抛光液，旨在提供一种以有机碱替代无机碱，通过添加螯合剂、活性剂降低产品表面粗糙度，减少划伤，提高平整度的锑化铟化学机械抛光液。按体积百分比由下述组分组成：ＳｉＯ↓［２］浓度为３０－５０％的硅溶胶５０－９８...
该专利属于河北工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过河北工业大学授权不得商用。

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