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用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座制造技术
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下载用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座的技术资料
文档序号:16480827
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一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座,包括托盘主体,呈一圆盘结构,该圆盘外侧边上具有外螺纹,所述圆盘中心具有一凹槽;外边缘部件,呈一圆环结构,所述圆环内侧边上具有与所述外螺纹配套的内螺纹,外环部件通过配套的螺纹结构旋拧在托盘...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。
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