用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座制造技术

一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，包括托盘主体，呈一圆盘结构，该圆盘外侧边上具有外螺纹，所述圆盘中心具有一凹槽；外边缘部件，呈一圆环结构，所述圆环内侧边上具有与所述外螺纹配套的内螺纹，外环部件通过配套的螺纹结构旋拧在托盘主体上且可通过控制旋拧圈数改变外环部件相对于托盘主体的高度位置；以及内嵌部件，其嵌置于所述凹槽内，所述内嵌部件中间开设一用于放置样品的凹坑。组合式衬底基座采用三段式分体结构，这使得可以对托盘的结构进行细微的调整，从而精细的研究托盘结构的变化对实验的影响程度，提高实验的精确性和可靠性。

Composite substrate substrate for microwave plasma chemical vapor deposition equipment

Combined substrate pedestal for a microwave plasma chemical vapor deposition equipment, including a pallet body, a disc structure, with the external thread of the outer edge of the disc, the center disc is provided with a groove; the outer edge part, a ring structure, internal thread with the external thread matching the ring the medial side, the height position of the outer ring member is screwed by a screw thread structure supporting the pallet body and the tray body relative to the control by screwing ring number change outer ring member; and the embedded parts, which are embedded in the groove, the middle of the embedded parts to open a pit for placing a sample. Combined type substrate base adopts three section type structure, which makes the structure of the tray can be slightly adjusted, the degree of influence on the tray structure to fine for the experiment, improve the accuracy and reliability of experiment.

【技术实现步骤摘要】
用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座
本专利技术涉及支承装置以及材料生长领域，进一步涉及一种组合式托盘，尤其涉及一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座。
技术介绍
气相沉积过程中，尤其是等离子化学气相沉积过程中(例如MPCVD制备CVD单晶金刚石)，影响参数众多，放置衬底的托盘(例如钼托)结构是一个非常重要的参数，所以制备高质量的材料生长产品必然要对托盘(例如钼托)结构对材料生长的影响进行充分的研究。应用等离子体进行材料生长的产品，例如金刚石，其集物理、化学、力学、光学、电学等各方面的优异性质于一身，特别是在电学性质方面，它具有宽的禁带宽度、高的载流子迁移率、饱和电子漂移速度、高的击穿电场、低的介电常数等。并且由于其具有已知矿物中最高的热导率，使得金刚石材料制备的半导体器件工作时产生的热量能够迅速导出去，这使得金刚石特别适用于制备在高温、高频、大功率、强辐射等恶劣条件下工作的半导体器件。正因为金刚石的这些优秀属性，使得它成为新一代半导体材料的研究焦点，未来具有广阔的应用前景。研究托盘(例如钼托)结构的改变对材料生长(例如单晶金刚石生长)的影响就需要制备大量不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，其特征在于包括：托盘主体，呈一圆盘结构，该圆盘外侧边上具有外螺纹，所述圆盘中心具有一凹槽；外边缘部件，呈一圆环结构，所述圆环内侧边上具有与所述外螺纹配套的内螺纹，外环部件通过配套的螺纹结构旋拧在托盘主体上且可通过控制旋拧圈数改变外环部件相对于托盘主体的高度位置；以及内嵌部件，其嵌置于所述凹槽内，所述内嵌部件中间开设一用于放置样品的凹坑。

【技术特征摘要】
2016.04.21 CN 20161025156941.一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，其特征在于包括：托盘主体，呈一圆盘结构，该圆盘外侧边上具有外螺纹，所述圆盘中心具有一凹槽；外边缘部件，呈一圆环结构，所述圆环内侧边上具有与所述外螺纹配套的内螺纹，外环部件通过配套的螺纹结构旋拧在托盘主体上且可通过控制旋拧圈数改变外环部件相对于托盘主体的高度位置；以及内嵌部件，其嵌置于所述凹槽内，所述内嵌部件中间开设一用于放置样品的凹坑。2.根据权利要求1所述的用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，其特征在于，所述组合式衬底基座为微波等离子体化学气相沉积设备中用于制备金刚石的衬底基座。3.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：付方彬，金鹏，王占国，
申请(专利权)人：中国科学院半导体研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11