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本发明提供一种反应腔室，包括基座、基座升降机构、机械压环和支撑件，其中，基座用于承载晶片。基座升降机构用于驱动基座上升至工艺位置或者下降至装卸位置。机械压环用于在基座位于工艺位置时将晶片固定在基座上。支撑件用于在基座离开工艺位置时支撑机械压...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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