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基板处理系统和基板搬送方法技术方案
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文档序号:16390156
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本发明提供一种基板处理系统和基板搬送方法。基板处理系统具有在曝光前进行基板的背面清洗的功能,能够提高基板处理的成品率。涂敷显影处理系统的交接站(5)具有:在将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的清洗单元(100);在晶片搬入到曝光装置...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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