基板处理系统和基板搬送方法技术方案

本发明专利技术提供一种基板处理系统和基板搬送方法。基板处理系统具有在曝光前进行基板的背面清洗的功能，能够提高基板处理的成品率。涂敷显影处理系统的交接站(5)具有：在将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的清洗单元(100)；在晶片搬入到曝光装置之前，对于清洗后的晶片的背面检查该晶片能否进行曝光的检查单元(101)；暂时收纳由检查单元(101)检查后的晶片的缓冲单元(111)；和晶片搬送机构(120，130)，其包括在各单元(100，101，111)之间搬送晶片的臂。

Substrate processing system and substrate delivery method

The present invention provides a substrate processing system and a substrate delivery method. The substrate processing system has the function of cleaning the back of the substrate before exposure, which can improve the yield of the substrate processing. Coating and developing processing system of transfer station (5) is: in the cleaning unit will move into the wafer exposure device at least before cleaning the wafer backside (100); prior to the exposure device on the wafer to move into, for the inspection unit of the back side of the wafer after the wafer cleaning check whether exposure (101); temporary storage by the inspection unit (101) wafer inspection after the buffer unit (111); and the wafer transfer mechanism (120130), which included in each unit (100101111) between the moving wafer arm.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及进行基板处理的基板处理系统、基板处理系统中的基板处理方法。
技术介绍
例如半导体器件的制造工序中的光刻工序中，依次进行在晶片上涂敷抗蚀剂液形成抗蚀剂膜的抗蚀剂涂敷处理、将抗蚀剂膜曝光为规定的图案的曝光处理、对曝光的抗蚀剂膜进行显影的显影处理等的一系列的处理，从而在晶片上形成规定的抗蚀剂图案。这些一系列的处理在作为搭载有处理晶片的各种处理单元或输送晶片的输送单元等的基板处理系统的涂敷显影处理系统中进行。如图32所示，例如，以往，涂敷显影处理系统300作为整体具有：用于从外部搬入搬出盒(cassette)C的载盒台(cassettestation)301、正面和背面设置有进行抗蚀剂涂敷处理、显影处理以及热处理等的各种处理的多个处理单元的处理台302和在设置于涂敷显影处理系统300的外部的曝光装置A与处理系统302之间进行晶片的交接的交接交接台303。但是，近年来，形成于晶片上的电路图案的精细化不断发展，曝光处理时的离焦裕度(defocusmargin)更加严格。与此相伴，在曝光装置A中需要尽量不能掺入有颗粒(particle)。尤其是，晶片背面的颗粒成为问题。因此，与曝光装置A相邻的交接站303中，为了极力减少颗粒向曝光装置A的掺入，设置有对搬送到曝光装置A之前的晶片的背面进行清洗去除颗粒的晶片清洗单元310、检查清洗后的晶片的晶片检查单元311。另外，在交接站303中，设置有用于在各单元310、311之间交接晶片的交接单元312、在这些各单元310、311、312之间搬送晶片的晶片搬送装置313等(专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-135583号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，如上述的涂敷显影处理系统300，当交接站303中设置有如晶片清洗单元310或晶片检查装置311这样的多个单元时，需要进行各单元之间的晶片的交接，因此，无法避免晶片的搬送次数的增加。结果是，晶片搬送装置的控制变复杂，而且，由晶片搬送装置搬送的晶片的移动距离也变长，因此，晶片运送装置的负荷也提高。另外，上述的涂敷显影处理系统300中，通过晶片检查单元311被判断为有异常的晶片越少，涂敷显影处理系统300的成品率就越提高。通过本专利技术者们的验证可知，即使由晶片检查单元311被判断为有异常的晶片，也包括多个通过在晶片清洗单元310中再次清洗，成为能够搬入到曝光装置A的状态的晶片。但是，在上述专利文献1的涂敷显影处理系统300中，被判断为有异常的晶片都被回收到盒站301，因此，不能提高成品率。本专利技术是鉴于上述的问题而完成的，其目的在于，在具备在曝光前进行基板的背面清洗的功能的基板处理系统中，保证基板的背面的清洁性并且减少基板搬送的负荷，以及提高基板处理的成品率。用于解决课题的技术方案为了达到上述的目的，本专利技术为一种基板处理系统，其包括设置有对基板进行处理的多个处理单元的处理站；和在上述处理站和设置于外部的曝光装置之间进行基板的交接的交接站，该基板处理系统的特征在于：上述交接站具有：在将基板搬入到上述曝光装置之前至少清洗基板的背面的基板清洗部；和在清洗后的上述基板搬入到上述曝光装置之前，至少对于清洗后的上述基板的背面检查该基板能否进行曝光的基板检查部，上述基板清洗部和上述基板检查部配置于同一箱体的内部，在上述箱体的内部，设置有在上述基板清洗部和上述基板检查部之间搬送基板的搬送手段。根据本专利技术，清洗基板的背面的基板清洗部和检查清洗后的基板的基板检查部收纳于同一箱体的内部，并且，能够通过设置于箱体的内部的搬送手段进行该基板清洗部和基板检查部之间的基板搬送。因此，在基板清洗部和基板检查部之间搬送基板时，无需如以往那样，使用例如设置于箱体的外部的搬送装置。于是，能够减少基板搬送的负荷。在上述交接站中，也可以设置有去除附着于由上述基板清洗部清洗后的基板的水分的脱水单元。基板搬送控制部，其以如下方式控制上述搬送手段：当在上述基板检查部的检查结果被判断为，基板的状态成为通过在上述基板清洗部的再清洗能够曝光的状态时，再次将该基板搬送到上述基板清洗部。上述基板搬送控制部以将再次搬送到上述基板清洗部被清洗后的基板再次搬送到基板检查部的方式控制上述基板搬送机构。在上述交接站中，设置有将由上述基板检查部检查后且搬入到上述曝光装置之前的基板调整到规定的温度的温度调整机构。上述温度调整机构设置于上述箱体的内部。在上述交接站中，也可以设置有使由上述基板检查部检查后的基板暂时待机的缓冲待机部。上述缓冲待机部设置于上述箱体的内部。上述缓冲待机部使上述检查后的基板待机直到判断出该检查后的基板的检查结果。在上述箱体的内部设置有清洗上述搬送手段的搬送手段清洗机构。上述基板清洗部兼用作上述搬送手段清洗机构。根据另一个观点的本专利技术为基板处理系统的基板搬送方法，该基板处理系统包括设置有对基板进行处理的多个处理单元的处理站；和在上述处理站与设置于外部的曝光装置之间进行基板的交接的交接站，该基板搬送方法的特征在于：上述交接站具有：在将基板搬入到上述曝光装置之前至少清洗基板的背面的基板清洗部；和在清洗后的上述基板搬入到上述曝光装置之前，至少对于清洗后的上述基板的背面检查该基板能否进行曝光的基板检查部，上述基板清洗部和上述基板检查部配置于同一箱体的内部，在上述基板清洗部和上述基板检查部之间的基板的搬送通过在上述箱体的内部设置的基板搬送手段进行。在上述交接站中，也可以设置有去除附着于上述基板的水分的脱水单元，由上述基板清洗部清洗后的基板通过上述脱水单元进行脱水。当在上述基板检查部的检查结果被判断为，基板的状态成为通过在上述基板清洗部的再清洗能够曝光的状态时，再次将该基板搬送到上述基板清洗部进行清洗。也可以将再次搬送到上述基板清洗部被清洗后的基板，再次搬送到基板检查部。也可以将由上述基板检查部检查之后且在搬入到上述曝光装置之前的基板调整到规定的温度。上述基板的温度调整在上述箱体的内部进行。也可以使由上述基板检查部检查之后的基板暂时在设置于上述交接站的缓冲待机部待机。上述缓冲待机部设置于上述箱体的内部。也可以使检查后的上述基板在上述缓冲待机部待机直到判断出在上述基板检查部的检查结果。在上述箱体的内部设置有清洗上述搬送手段的搬送手段清洗机构。上述基板清洗部兼用作上述搬送手段清洗机构。为了达到上述的目的，本专利技术为基板处理系统，其包括设置有对基板进行处理的多个处理单元的处理站；和在上述处理站和设置于外部的曝光装置之间进行基板的交接的交接站，该基板处理系统的特征在于：上述交接站具有：在将基板搬入到上述曝光装置之前至少清洗基板的背面的基板清洗部；在清洗后的上述基板搬入到上述曝光装置之前，至少对于清洗后的上述基板的背面检查该基板能否进行曝光的基板检查部；具有在上述基板清洗部和上述基板检查部之间搬送基板的臂的基板搬送机构；和控制上述基板搬送机构的动作的基板搬送控制部，上述基板搬送控制部对上述基板搬送机构进行控制，使得在上述基板检查部的检查的结果被判断为，基板的状态成为通过上述基板清洗部的再清洗能够曝光的状态的情况下，再次将该基板搬送到上述基板清洗部。根据本专利技术，具有基板搬送控制部，其以如下方式控制基板搬送机构：当在基板检查部判断出清洗后的基板的背面的检查结本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理系统，其包括设置有对基板进行处理的多个处理单元的处理站；和在所述处理站和设置于外部的曝光装置之间进行基板的交接的交接站，该基板处理系统的特征在于：所述交接站具有：在将基板搬入到所述曝光装置之前至少清洗基板的背面的清洗单元；在所述基板搬入到所述曝光装置之前，对于所述基板的背面检查该基板能否进行曝光的检查单元；暂时收纳由所述检查单元检查后的基板的缓冲收纳部；和基板搬送机构，其包括在所述清洗单元、所述检查单元和所述缓冲收纳部之间搬送基板的臂。

【技术特征摘要】
2011.11.04 JP 2011-242333;2011.11.04 JP 2011-242331.一种基板处理系统，其包括设置有对基板进行处理的多个处理单元的处理站；和在所述处理站和设置于外部的曝光装置之间进行基板的交接的交接站，该基板处理系统的特征在于：所述交接站具有：在将基板搬入到所述曝光装置之前至少清洗基板的背面的清洗单元；在所述基板搬入到所述曝光装置之前，对于所述基板的背面检查该基板能否进行曝光的检查单元；暂时收纳由所述检查单元检查后的基板的缓冲收纳部；和基板搬送机构，其包括在所述清洗单元、所述检查单元和所述缓冲收纳部之间搬送基板的臂。2.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于：所述缓冲收纳部收纳所述检查后的基板直到判断出该检查后的基板的检查结果。3.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：所述基板搬送机构包括：将已搬入到所述交接站中的基板搬送到所述清洗单元的第一搬送臂；和将由所述清洗单元清洗之后的基板搬送到所述检查单元，进一步将由所述检查单元检查之后的基板搬送到所述缓冲收纳部的第二搬送臂。4.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：所述基板搬送机构包括：将已搬入到所述交接站中的基板搬送到所述清洗单元的第一搬送臂；将由所述清洗单元清洗之后的基板搬送到所述检查单元的第二搬送臂；和将由所述检查单元检查之后的基板搬送到所述缓冲收纳部的第三搬送臂。5.如权利要求1～3中任一项所述的基板处理系统，其特征在于：所述清洗单元设置于所述交接站的正面侧和背面侧中的任意一侧，所述检查单元设置于所述清洗单元的相反...

【专利技术属性】
技术研发人员：中原田雅弘，酒田洋司，宫田亮，林伸一，榎木田卓，中岛常长，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP