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对磁性层进行蚀刻的方法技术
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下载对磁性层进行蚀刻的方法的技术资料
文档序号:16308636
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一实施方式的方法包括将具有磁性层的被处理体载置于在等离子体处理装置的处理容器内设置的静电夹具上的工序;以及对磁性层蚀刻的工序,该工序在处理容器内生成包括异丙醇及二氧化碳在内的处理气体的等离子体。一实施方式中,处理容器内的空间压力设定为1.3...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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