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本发明提供了一种光栅的制作方法以及一种具有光栅的背照式CMOS图像传感器。该光栅的制作方法包括：提供一基底，在所述基底上形成一图像掩模层并刻蚀所述图像掩模层形成若干开口，接着形成光栅层，所述光栅层覆盖剩余的图像掩模层并填充所述开口，然后进行...
该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。

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