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用于利用通过至少第一、第二和第三气体注射区域引入的气体处理衬底的等离子体处理系统的气体供应输送装置包括处理气体供应入口和调节气体入口。混合歧管包括与处理气体供应装置流体连通的气体棒和与调节气体供应装置流体连通的调节气体棒。第一气体出口将气体...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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