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一种通过供应非均匀的气流冷却图案形成装置的设备、系统和方法。该设备和系统包括供应横跨图案形成装置的第一表面的气流的气体供应结构。该气体供应结构包括专门配置成用于产生非均匀气流分布的气体供应喷嘴。将较大体积或速度的气流引导至该图案形成装置的期...该专利属于ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司授权不得商用。