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文中公开了几种方法，用在图案形成过程中，用于减小设计布局的一部分的Bossung曲线的倾斜、一个或多个图案位移误差、对比度损失、最佳聚焦偏移，所述图案形成过程用于使用光刻设备将所述部分成像到衬底上。所述方法包括：使用一个或多个规则，基于从以...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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